VEStudio虚拟仿真创作平台特性:
【全新引擎升级】——
支持DX,更好的兼容性
支持WinXP,Win7操作系统
支持32位、64位的MAX插件
子属性编辑
自动dds纹理优化工具
PS联动编辑纹理实时修改
【次世代画面】——
实时光影、雾效、凹凸、offsetting、反射贴图、BLOOM、SSAO、DOF、GodRays特效、水面、镜面、环境反射渲染
【组件式场景搭建】——
标准模型、库模型、粒子模板、材质模板
【材质系统】——
次世代、水面、混合(支持MAX合成材质导出为VES的混合材质。)、swf材质(场景中视频如电视画面、等离子广告)、玻璃、天空、卡通等
【粒子系统】——
可视化编辑
【物理碰撞】——
碰撞导航、角色漫游导航、人工智能
【全新GUI界面与脚本交互】——
支持Flash格式GUI界面、自定义菜单交互、鼠标交互、界面自动缩放
【主模块】——
人工智能(Artificial Intelligence)、交互物体、体积云、海洋模块、海量场景
【场景发布】——
数据安全:
场景加密输出、版权声明保护
网页发布:
自动更新主程序、场景缓存模式、智能化便捷的发布模式
【教程指南】——
软件附带全新chm帮助文档、平台自带多个可编辑案例场景
VEStudio2.2正式版
继续修改了Alpha版以后已知的Bug;
修改提升了阴影的效率;
增加了PS特效;
增加了顶点/纹理动画及相关脚本函数;
增加了高光贴图支持;
增加了SketchUp的模型导出插件;
增加了例子[动画大观];
支持自定义加载界面。
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